1. The process of film deposition involves coating a substrate with a thin layer of material.
Die Prozess der Filmabscheidung beinhaltet das Beschichten eines Substrats mit einer dünnen Schicht Material.
2. Film deposition can be achieved through techniques such as physical vapor deposition or chemical vapor deposition.
Die Filmabscheidung kann durch Techniken wie physikalische oder chemische Gasphasenabscheidung erreicht werden.
3. Researchers are studying the effects of different parameters on film deposition rates.
Forscher untersuchen die Auswirkungen verschiedener Parameter auf die Abscheideraten von Filmen.
4. Film deposition is commonly used in the semiconductor industry to create thin films on silicon wafers.
Die Filmabscheidung wird in der Halbleiterindustrie häufig verwendet, um dünnen Schichten auf Siliziumwafern zu erzeugen.
5. The quality of film deposition can affect the performance and durability of electronic devices.
Die Qualität der Filmabscheidung kann die Leistung und Haltbarkeit von elektronischen Geräten beeinflussen.
6. Advanced techniques in film deposition have led to the development of new materials with unique properties.
Fortgeschrittene Techniken in der Filmabscheidung haben zur Entwicklung von neuen Materialien mit einzigartigen Eigenschaften geführt.
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